Ein Plasmaprozessor ist ein Gerät, das für die Plasmaverarbeitung verwendet wird. Seine Struktur besteht aus den folgenden Hauptkomponenten:
Entladungskammer: Die Entladungskammer ist die Kernkomponente eines Plasmamapers. Es verwendet hohe Wechselstromspannungs- oder Funkfrequenz -elektrische Felder, um Gasabladungen zu verursachen, wodurch Plasma bildet. Die Entladungskammer besteht in der Regel aus Isoliermaterialien wie Keramik oder Glas.
Arbeitskammer: Die Arbeitskammer ist der Hauptort für die Materialverarbeitung. Unterschiedliche Verarbeitungseffekte werden durch Steuerung unterschiedlicher Gas-, Druck- und Leistungsparameter erzielt. Die Arbeitskammer besteht in der Regel aus Materialien mit guten Vakuumdichtungseigenschaften wie Metall oder Keramik.
Evakuierungssystem: Das Vakuumsystem wird verwendet, um das Gas aus der Arbeitskammer zu extrahieren, um während der Verarbeitung eine Vakuumumgebung zu schaffen. Das Vakuumsystem besteht typischerweise aus einer Vakuumpumpe und einem damit verbundenen Kontrollsystem.
Hoch - Frequenzstromversorgung: Die hohe - Frequenzstromversorgung bietet dem Plasma -Prozessor Energie und ionisieren das Gas, um Plasma durch ein hohes - Frequenz -Elektrofeld zu bilden. Die hohe - Frequenzleistung besteht typischerweise aus elektronischen Komponenten und zugehörigen Steuerungssystemen.
Automatisches Steuerungssystem: Das automatische Steuerungssystem steuert den gesamten Plasmaverarbeitungsprozess, einschließlich der Parametereinstellung, der Verarbeitungszeitregelung und der Überwachung der Vakuumebene. Das automatische Steuerungssystem besteht in der Regel aus einem Computer und einer damit verbundenen Steuerungssoftware.
Darüber hinaus sind Plasmaverarbeitern mit einem Gasversorgungssystem ausgestattet, um die erforderlichen Gase an die Entladungskammer zu liefern. Dieses System besteht typischerweise aus einem Gaszylinder, einem Druckregler, einem Durchflussregler und anderen Komponenten.
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass die Struktur eines Plasmakambers die Entladungskammer, eine Arbeitskammer, ein Vakuumsystem, ein hohes - -Frequenzleistung und ein automatisches Steuerungssystem umfasst. Der koordinierte Betrieb dieser Komponenten ermöglicht es dem Plasmamaperprozessor, verschiedene physikalische und chemische Reaktionen auf der materiellen Oberfläche zu induzieren und so die gewünschte Behandlung zu erreichen.